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| 真空鍍膜技術逐步替代傳統(tǒng)水電鍍 |
| 發(fā)布時間：2014-02-27 瀏覽： 次 |
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傳統(tǒng)水電鍍由于污水處理成本高、能耗高，而且造成水資源的浪費，已經被國家及各級地方政府所限制發(fā)展。在此背景下，目前迫切需要尋找一種替代傳統(tǒng)水電鍍的表面處理方法，使我們傳統(tǒng)水電鍍行業(yè)進行技術升級。真空電鍍相對于傳統(tǒng)水電鍍有以下優(yōu)勢：
沉積材料廣泛：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬。節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優(yōu)良。無環(huán)境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境沒有危害。
但目前真空鍍膜替代水電鍍上的技術難點是：進一步提高真空鍍層的表面裝飾效果，如何在不進行前處理的情況下，直接利用真空氣相沉積的辦法，不增加成本的前提下，達到水電鍍可以達到的亮度、光潔度。 目前真空鍍膜是已知的，唯一對環(huán)境沒有任何污染的表面處理方式。雖然真空鍍膜設備及工藝上，我國已經取得了一定的成果，可以部分替代水電鍍，已經有大量設備進入市場，實現了工業(yè)化生產。但是在一些工藝上還要進行進一步的研發(fā)投入。
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