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| 真空鍍膜機(jī)常見問題有哪些？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2025-04-07 瀏覽： 次 |
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真空鍍膜機(jī)在運(yùn)行過程中可能會(huì)遇到多種問題，影響鍍膜質(zhì)量、設(shè)備穩(wěn)定性或生產(chǎn)效率。 下面是一些真空鍍膜機(jī)日常使用中常見的的問題及維修辦法，僅供各位學(xué)習(xí)和參考： 一、 鍍膜附著力差 可能原因：基片清潔不徹底(表面有油脂、氧化物或灰塵)。鍍膜前未進(jìn)行離子清洗或清洗功率不足?；瑴囟冗^低或過高。膜層與基材不匹配(如應(yīng)力過大)。 解決方法：加強(qiáng)基片清洗(超聲清洗、等離子清洗)。優(yōu)化離子清洗參數(shù)(如Ar離子轟擊時(shí)間、功率)。調(diào)整基片加熱溫度(如金屬膜需適當(dāng)加熱)。增加過渡層(如Cr、Ti等提高結(jié)合力)。 二 、 真空抽不上去(真空度不足) 可能原因：真空泵油污染或不足(如擴(kuò)散泵油氧化、機(jī)械泵油乳化)。真空系統(tǒng)泄漏(密封圈老化、法蘭密封不良、腔體焊縫開裂)。 泵組性能下降(如羅茨泵、分子泵故障)。氣體負(fù)載過大(材料放氣、管道污染或工藝氣體泄漏)。 解決方法：檢查并更換真空泵油，清潔泵內(nèi)部。用氦質(zhì)譜檢漏儀或酒精噴涂法查找漏點(diǎn)，更換密封圈(如O型圈)。維護(hù)或更換故障泵(如分子泵軸承損壞)。烘烤腔體或延長(zhǎng)抽氣時(shí)間，減少材料放氣。 三 、 膜層表面出現(xiàn)顆?；蛉毕?/p> 可能原因：靶材或蒸發(fā)材料純度低(雜質(zhì)濺射)。腔體污染(前次鍍膜殘留物或粉塵)?；砻嬗挟愇锘騽澓?。工藝參數(shù)異常(如濺射氣壓過高導(dǎo)致微電弧)。 四、 膜層厚度不均勻 可能原因：蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材分布不均(如電子槍掃描范圍不足)?；D(zhuǎn)/自轉(zhuǎn)速度不合理。膜厚監(jiān)控儀(石英晶振或光學(xué)監(jiān)控)誤差。工藝氣體分布不均(如磁控濺射的氬氣流量不穩(wěn)定)。 解決方法：調(diào)整蒸發(fā)源或靶材位置，優(yōu)化電子槍掃描路徑。校準(zhǔn)基片架旋轉(zhuǎn)速度。清潔或更換膜厚監(jiān)控傳感器，校準(zhǔn)參數(shù)。檢查氣體流量控制系統(tǒng)，確保均勻性。 解決方法：使用高純度靶材(如99、99%以上)。定期清潔腔室(特別是擋板、夾具)。加強(qiáng)基片前處理(過濾清洗液、無塵環(huán)境操作)。優(yōu)化濺射功率、氣壓等參數(shù)。 五、 鍍膜顏色偏差(光學(xué)鍍膜) 可能原因：膜厚監(jiān)控誤差(光學(xué)監(jiān)控波長(zhǎng)偏移)。折射率變化(工藝溫度或沉積速率影響)。材料成分偏離(如反應(yīng)濺射中氣體比例變化)。 解決方法：重新校準(zhǔn)光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)?？刂瞥练e速率和基片溫度穩(wěn)定。調(diào)整反應(yīng)氣體流量(如SiO?鍍膜中O?比例)。 六、 設(shè)備頻繁報(bào)警 常見報(bào)警類型：真空?qǐng)?bào)警：泵組聯(lián)動(dòng)故障、壓力傳感器異常。溫度報(bào)警：基片加熱器熱電偶損壞或冷卻水不足。電源報(bào)警：過載、短路或冷卻系統(tǒng)失效(如濺射電源水冷堵塞)。 解決方法：檢查PLC或控制程序邏輯，復(fù)位后重啟。更換損壞的傳感器或冷卻系統(tǒng)(如清理水垢)。 七、 輝光放電不穩(wěn)定(如濺射鍍膜) 可能原因：靶材表面氧化或污染(導(dǎo)致異常放電)。磁場(chǎng)不均勻(磁控濺射靶材侵蝕不均)。電源匹配問題(射頻或直流電源故障)。工藝氣體比例異常(如反應(yīng)濺射中O?/N?波動(dòng))。 解決方法：預(yù)濺射清潔靶材表面。檢查磁鐵排列或更換靶材。校準(zhǔn)電源匹配器，檢查電纜連接。穩(wěn)定氣體流量，安裝質(zhì)量流量計(jì)(MFC)。 本文由真空鍍膜機(jī)廠家愛加真空收集整理自網(wǎng)絡(luò)，僅供參考 |
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